圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備主要用于剝離過程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-09-17
訪問量：1360

立即咨詢

聯(lián)系電話：021-31434441

產(chǎn)品詳情

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備工藝原理：

光刻圖形反轉(zhuǎn)是一種特殊的工藝，用于制作?半導(dǎo)體器件。在曝光結(jié)束后，光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的，即曝光區(qū)域在顯影后會形成孔洞而不是島區(qū)。這種工藝主要用于制作孔洞結(jié)構(gòu)，通過改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對分解率來實(shí)現(xiàn)。

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的應(yīng)用：

光刻圖形反轉(zhuǎn)工藝主要用于剝離過程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的性能：

尺寸(可定制)	內(nèi)腔尺寸:450寬×450深×450高(mm)，外形尺寸:760×750×1500 (mm)
材質(zhì)	內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼，外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板靜電噴塑
溫度范圍	RT+50-250℃
溫度分辨率	0.1℃
溫度波動(dòng)度	≤±1℃
操作模式	人機(jī)界面
升溫速率	≤5℃/min
氣體	2路供氣
真空度	0.1~100KPa
電源及總功率	AC220V±10% / 50HZ 總功率約2.8KW
溫度控制器	觸摸屏微電腦溫控器，可校準(zhǔn)溫度，PID 自整定等功能
擱板層數(shù)	不銹鋼托盤2層
真空泵	渦旋干泵
腔門密封圈	采用耐高溫硅橡膠密封圈，密封圈采用一體成型無縫加工

在線咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說明：
驗(yàn)證碼：

請輸入計(jì)算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱
下一篇：HMDS預(yù)處理機(jī)H-2 智能HMDS真空烘箱

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說明：

驗(yàn)證碼：