厭氧烘箱在PI亞胺化工藝的應用

更新時間：2022-10-20

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厭氧烘箱應用背景

半導體功率整流器件在電子電力設備中廣泛應用，功率整流器件在電路中的電氣性能全部依靠其中的芯片來實現(xiàn)。芯片的穩(wěn)定性和可靠性主要取決于芯片的鈍化保護質(zhì)量。因此，提高芯片的鈍化保護質(zhì)量是提高芯片的穩(wěn)定性和可靠性的關鍵所在。用聚酰亞胺鈍化保護整流芯片生產(chǎn)的產(chǎn)品工藝成本降低了 10%，每年廢水排水量減少了 60% 。

厭氧烘箱應用工藝固化

將聚酰亞胺酸均勻涂敷在硅片的P+面，通過烘烤使涂敷在P+面的聚酰亞胺酸形成聚酰亞胺層，保護PN結，控制烘烤溫度。亞胺化反應一般在300~400℃條件下進行，反應產(chǎn)物之一的水被脫除，從而提高了酰亞胺化的反應速率，伴隨這一脫水過程，反應體系中的有機溶劑、未反應單體以及其他低沸點有機反應組分，如中間產(chǎn)物和雜質(zhì)等，也會一同被蒸發(fā)脫除。

厭氧烘箱技術性能

溫度范圍： RT ～450℃；
氧含量：20ppm
規(guī)格尺寸：自定義

壓力：負壓/常壓，可選

電話：TEL
021-31434441
郵箱：EMAIL
junsish@163.com
傳真：FAX
86-021-60649603

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